Тональная основа для лица Makeup Revolution Skin Silk Serum Foundation, тон F3

Тональная основа для лица Makeup Revolution Skin Silk Serum Foundation, тон F3Откройте для себя инновационную основу под макияж Skin Silk от Revolution — революционный опыт красоты, сочетающий в себе мягкость шелка и легкость воздуха, усиленный уходом за кожей.Эта инновационная сыворотка с легким и средним покрытием обогащена гиалуроновой кислотой и пептидным комплексом, предназначенными для разглаживания и увлажнения кожи, придавая ей естественный сияющий цвет.С помощью этой легкой, дышащей основы вы сможете добиться тонкого или многослойного покрытия, создавая легкий эффект второй кожи.Он поставляется в роскошном стеклянном контейнере и обеспечивает точное и контролируемое нанесение.Почему вашей коже понравится Skin Silk:Идеально подходит для всех типов кожи.Гладкий и сияющий сатиновый финиш, скрывающий недостатки.Легкая, дышащая формула для создания стойкого покрытия.Содержит суперувлажняющую гиалуроновую кислоту и пептиды, стимулирующие выработку коллагена.Наносить тональную основу можно кистью, пальцами или спонжем для растушевки.3 — для светлой кожи с нейтральным розовым подтономСостав: Aqua (Water, Eau), Dimethicone,Isododecane, C13-15 Alkane, Ethylhexyl Stearate, Glycerin, PentaerythritylTetraisostearate, Caprylyl Methicone, Cetyl Peg/Ppg-10/1 Dimethicone, Silica,Quaternium-90 Bentonite, Isobutylmethacrylate/Bis-Hydroxypropyl DimethiconeAcrylate Copolymer, Sodium Chloride, Tri(Polyglyceryl-3/Lauryl)HydrogenatedTrilinoleate, Phenoxyethanol, Divinyldimethicone/Dimethicone Crosspolymer,Dextrin Palmitate, Triethyl Citrate, Lecithin, Polyhydroxystearic Acid,Caprylyl Glycol, Parfum ( Fragrance), Tocopheryl Acetate, Ethylhexyl Palmitate,Isopropyl Myristate, Isostearic Acid, Polyglyceryl?€?3 Polyricinoleate,Pentaerythrityl Tetra-Di-T-Butyl Hydroxyhydrocinnamate, Butylene Glycol, SodiumHyaluronate, Polysorbate 20, Carbomer, Ethylhexylglycerin, PalmitoylTripeptide-1, Palmitoyl Tetrapeptide-7, Hexyl Cinnamal, Benzyl Salicylate, Ci77491 (Iron Oxides), Ci 77492 (Iron Oxides), Ci 77499 (Iron Oxides), Ci 77891(Titanium Dioxide).