Крем для лица Valmont Restoring Perfection

Крем для лица Valmont Restoring Perfection разработан специально для интенсивной защиты от негативного воздействия UV-лучей. Активные компоненты в составе уходового продукта Restoring Perfection от Valmont обеспечивают необходимое питание, возвращая эпидермису здоровый вид. Легкая бархатистая текстура крема для лица мгновенно тает на коже, обеспечивая невероятную свежесть и комфортные ощущения в течение всего дня.ПрименениеИспользовать утром или перед любым солнечным воздействием. Наносить средство на лицо, шею и декольте. RESTORING PERFECTION может быть использован самостоятельно, после сыворотки и/или крема для экстра-комфорта. Идеальная база под макияж, придает коже отдохнувший, сияющий вид. Наносить так часто, как необходимо во время пребывания на солнце.СоставКомплекс Кремний D²: Под воздействием UV лучей удваивается синтез коллагена. Солнцезащитные фильтры: Действует как защитный щит против UVA и UVB лучей. Антиоксидант: Нейтрализует свободные радикалы для сохранения молодости. Тройная ДНК: Интенсивно увлажняет. РНК в липосоме: Восстанавливает поврежденные клетки. Производная Карнозина (синтезированный псевдо-пептид): Мощное восстановление клеток, поврежденных свободными радикалами или UVA и UVB лучами. Светоотражающие частицы: Идеальный белый пигмент активно как зеркало отражает свет. WATER (AQUA), ETHYLHEXYL METHOXYCINNAMATE PROPANEDIOL PHENYLBENZIMIDAZOLE SULFONIC ACID PENTYLENE GLYCOL trimethylsiloxysiliCate TROMETHAMINE PEG-10, DIMETHICONE, SODIUM CHLORIDE, DIMETHICONE CROSSPOLYMER DISTEARDIMONIUM HECTORITE, TRIETHOXYCAPRYLYLSILANE PHENOXYETHANOL, FRAGRANCE (PARFUM), PANTHENOL, SODIUM DNA MagnesIuM dNa UREA CALCIUM ONA GLYCERIN, DECARBOXYCARNOSINE HCI BUTYLENE GLYCOL METHYLSIlaNOL MANNURONAtE SILANEDIOL SALICYLATE lecithin внт RNA, SORBIC ACID, TOCOPHEROL, LIMONENE, CITRONELLOL, LINALOOL, HYDROXYCITRONELLAL ,EUGENOL HEXYL CINNAMAL BENZYL BENZOATE CINNAMYL ALCOHOL, GERANIOLДополнительная информациястрана происхожденияШвейцария