Набор средств для волос Constant Delight Intensive с минералами 2000 мл

Артикул магазина:
1000961973
Артикул производителя:
КД5634
Артикул магазина:
1000961973
Артикул производителя:
КД5634
1 987
2 839-30%
Цена на 13.01.2026
Бренд:
Модель:
Источник изображений товара:Детский мир
Перед покупкой обязательно проверьте характеристики товара у производителя или поставщика
Цена на 13.01.2026
1 987
2 839-30%

Набор средств Constant Delight Intensive с минералами 2000 мл предназначен для восстановления и питания сухих, поврежденных и ослабленных волос. В комплект входят шампунь и маска, которые усиливают здоровье волос, повышают их эластичность и придают природный блеск. Благодаря натуральным минералам, таким как медь, железо, магний, цинк, и другим микроэлементам, продукты восстанавливают структуру волос и защищают от негативных внешних факторов. Использование набора помогает уменьшить ломкость, бороться с пушистостью и сделать волосы более гладкими и послушными. Шампунь быстро и эффективно очищает, не пересушивая кожу головы, а маска насыщает локоны необходимыми питательными веществами, укрепляет их и создает защитную плёнку, препятствующую повреждениям от ультрафиолетовых лучей. Текущая формула относится к профессиональному уходу за волосами и подходит для использования в домашних условиях. Регулярное применение набора способствует более сильным, шелковистым и ухоженным волосам, сохраняет натуральную влагу и предотвращает сечение и ломкость волос.

Информация о товаре может содержать неточности, перед покупкой проверяйте информацию на сайте производителя.

Объем шампуня1000 мл
Объем маски1000 мл
ТипПитание и восстановление
Ключевые компонентыМинералы, медь, железо, магний, цинк
ОсобенностиУвлажнение, защита от УФ, укрепление
Подходит дляСухих, поврежденных волос
Рекомендуемая Частота примененияПо необходимости
Состав шампуняAqua, Sodium Laureth Sulfate, Sodium Chloride, Parfum, Imidazolidinyl Urea, Tetrasodium EDTA, Citric Acid, Hexyl Cinnamal, Linalool, CI 42090, Saccharomyces/Copper Ferment, Saccharomyces/Iron Ferment, Saccharomyces/Magnesium Ferment, Saccharomyces/Silicone Ferment, Saccharomyces/Zinc Ferment, EDTA
Состав маскиAqua, Cetearyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Imidazolidinyl Urea, Parfum, Phenoxyethanol, Propylene Glycol, Methylparaben, Ethylparaben, Citric Acid, Propylparaben, Butylparaben, CI 42090, Saccharomyces/Copper Ferment, Saccharomyces/Iron Ferment, Saccharomyces/Magnesium Ferment, Saccharomyces/Silicone Ferment, Saccharomyces/Zinc Ferment, EDTA
ФерментыБиологические вещества, участвующие в обменных процессах
МинералыЕстественные микроэлементы, повышающие питательные свойства продукта
УФ-защитаЗащита волос от воздействия ультрафиолетовых лучей

эффективный уход для сухих и поврежденных волос, насыщение микроэлементами, укрепление, защита от УФ, приятный запах

может не подойти для очень чувствительной кожи головы, содержит парабены и силикон

Сравнение товаров

Объем шампуня
1000 мл1000 мл1000 мл1000 мл1000 мл
Объем маски
1000 мл1000 мл1000 мл1000 мл
Подходит для
сухих, поврежденных волосокрашенных и химически обработанных волосповседневного использования, восстановления после химических процедур
Состав шампуня
Aqua, Sodium Laureth Sulfate, Sodium Chloride, Parfum, Imidazolidinyl Urea, Tetrasodium EDTA, Citric Acid, Hexyl Cinnamal, Linalool, CI 42090, Saccharomyces/Copper Ferment, Saccharomyces/Iron Ferment, Saccharomyces/Magnesium Ferment, Saccharomyces/Silicone Ferment, Saccharomyces/Zinc Ferment, EDTAAqua, Sodium Laureth Sulfate, Sodium Chloride, Parfum, Imidazolidinyl Urea, Tetrasodium EDTA, Citric Acid, Hydrolyzed KeratinAqua, Sodium Laureth Sulfate, Sodium Chloride, Parfum, Imidazolidinyl Urea, Tetrasodium EDTA, Citric Acid, Hydrolyzed CollagenWater, Sodium Laureth Sulfate, Sodium Chloride, Fragrance, Imidazolidinyl Urea, Tetrasodium EDTA, Citric Acid, Keratin Amino AcidsAqua, Sodium Laureth Sulfate, Sodium Chloride, Parfum, Imidazolidinyl Urea, Tetrasodium EDTA, Citric Acid, Hydrolyzed Collagen
Состав маски
Aqua, Cetearyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Imidazolidinyl Urea, Parfum, Phenoxyethanol, Propylene Glycol, Methylparaben, Ethylparaben, Citric Acid, Propylparaben, Butylparaben, CI 42090, Saccharomyces/Copper Ferment, Saccharomyces/Iron Ferment, Saccharomyces/Magnesium Ferment, Saccharomyces/Silicone Ferment, Saccharomyces/Zinc Ferment, EDTAAqua, Cetearyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Imidazolidinyl Urea, Parfum, Phenoxyethanol, Propylene Glycol, Methylparaben, Ethylparaben, Citric Acid, Propylparaben, Butylparaben, Hydrolyzed CollagenWater, Cetearyl alcohol, Cetrimonium chloride, Imidazolidinyl Urea, Fragrance, Phenoxyethanol, Propylene glycol, Citric Acid, Parabens, Keratin amino acidsAqua, Cetearyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Imidazolidinyl Urea, Parfum, Phenoxyethanol, Propylene Glycol, Methylparaben, Ethylparaben, Citric Acid, Propylparaben, Butylparaben, Hydrolyzed Collagen