Poisk.imПоиск по интернет-магазинам

ЛЭТУАЛЬ Тональная основа Silk Perfection Foundation 002 Fair Cool 30 мл

579
Цена на 05.11.2025
Бренд:
Модель:
Источник изображений товара:Лэтуаль
Перед покупкой обязательно проверьте характеристики товара у производителя или поставщика
Цена на 05.11.2025
579

Тональная основа Silk Perfection Foundation от LETOILE - это воплощение роскоши и красоты для вашей кожи. Лёгкая и невесомая текстура идеально выравнивает тон лица, скрывает мелкие несовершенства и создает эффект безупречного, естественного покрытия. Благодаря уникальной формуле кожа выглядит ухоженной, сияющей и свежей в течение всего дня. Эта тональная основа подстраивается под ритм жизни, обеспечивая комфорт и уверенность в любом освещении. Продукт подходит для тех, кто ценит качество и натуральный эффект без утяжеления. Наносите её на кожу лица равномерно, используя спонж или кисть, чтобы добиться идеального результата. В составе присутствуют компоненты, обеспечивающие уход и защиту кожи, такие как глицерин и витамины. Тональная основа имеет стойкую формулу и эффект шелковистой кожи. Используйте по назначению и при необходимости проконсультируйтесь с дерматологом в случае негативной реакции.

Код продуктаLET300802
Тип продуктаТональное средство
Объем30 мл
ЦветFair Cool
ТекстураЛегкая, невесомая
СтойкостьДлительное носка
Ключевые компонентыDimethicone, Titanium Dioxide, Iron Oxides
Рекомендуемое применениеПеред использованием встряхнуть, равномерно нанести спонжем или кистью
БезопасностьИспользуйте по назначению, при необходимости проконсультируйтесь с дерматологом
DimethiconeСиликоновый кондиционирующий агент, обеспечивает скользкость и защиту кожи
Titanium DioxideБелый пигмент и защита от ультрафиолетовых лучей
Iron OxidesОттеночные пигменты для придания цвета
GlycerinУвлажнитель и смягчитель кожи
CI 77891Код красителя диоксид титана

Легкая текстура обеспечивает естественный и невесомый макияж, стойкая формула сохраняется в течение дня, подходит для чувствительной кожи, содержит ухаживающие компоненты

Для некоторых может быть недостаточной для полного скрытия сильных недостатков, требует аккуратной растирки для равномерного нанесения, возможна индивидуальная реакция на состав